半导体理论:定义与基础

我们可以通过价频带和传导带之间的能隙来分类材料。价频带是由价电子组成的频带,并且导通带保持空。当电子从价带跳到导通带时,发生传导,并且这两个带之间的间隙是禁止的能隙。

价带和导带之间的间隙越宽,电子从价带转移到导带所需的能量就越高。在…情况下导体,这个能隙是不存在的,或者换句话说,是导带,价带相互重叠。因此,电子需要最低的能量才能跃出价带。导体的典型例子是银、铜和铝。在绝缘体,这个差距很大。

因此,它需要大量的能量来将电子从价转移到导电带。因此,绝缘体是电的差的电力导体。云母和陶瓷是绝缘材料的公知的例子。半导体另一方面,具有导体和绝缘体之间的能量隙。

该间隙通常是或多或少1eV,因此,一个电子需要比导体更多的能量,但是小于用于将价带转移到导带的绝缘材料。在低温下,在半导体晶体中的导通带中存在非常少量的电子,但是当温度增加时,越来越多的电子获得足够的能量以从价带迁移到导通带。因此,它们不会在低温下进行电力,但随着温度升高导电性增加。半导体最典型的例子是硅和锗。

半导体的定义

因此,半导体的定义可以如下。

既不是导体,也不是绝缘体,能隙约为1 eV(电子伏)的材料称为半导体。

商业上用作半导体的最常见材料是锗(Ge)和硅(Si),因为它们具有耐高温的特性。这意味着能量差不会随着温度的变化而发生明显的变化。

给出了Si和GE的能隙和绝对温度之间的关系

式中,T =绝对温度oK
假设室温为300oK,

在室温下电阻率在绝缘体和导体之间。半导体显示负的温度系数电阻率,这意味着它电阻随温度升高而降低。Si和Ge都是IV基团的元素,即两种元素都有四个价电子。两者都与相邻的分子形成共价键原子。在绝对零度温度下,二者表现为绝缘体,即价带满,导带空,但随着温度升高,越来越多的共价键断裂,电子被释放并跃迁到导带。
半导体理论
在半导体的上述能带图中。CB是导通带,VB是价带。在0.oK, VB充满了所有的价电子。

内在半导体

半导体理论,其纯形式的半导体称为本征半导体。在纯半导体中,电子数(n)等于空穴数(p),因此电导率很低,因为价电子是共价键。在这种情况下,我们写n = p = n,其中n叫做本征浓度。可以证明n可以写
在那里,n0是常数T是绝对温度VG是半导体带隙电压,和VT是热电压。
电压与温度的关系是V吗T= kT /问
式中,k为玻尔兹曼常数(k = 1.381×10−23J / K)。
内在半导体电导率(σ)由两个电子确定(σe)和孔(σh)并且取决于载体密度。
σ.e=neμ.e,σ.h= peμh
电导率,
其中n, p分别为电子数和空穴数。
μ.h,μ.e=自由空穴和电子的迁移率
n = n = p
e =载波电荷
硅晶体

外部半导体

半导体理论,纯度的半导体被称为非本征半导体外在半导体是通过添加少量的杂质而形成的。根据添加的杂质类型,我们有两种类型的半导体:n型和p型半导体。在100万份半导体中,加入一部分杂质。

N型半导体

在这种半导体中,大多数载流子是电子,少数载流子是空穴。n型半导体通过在纯半导体晶体中添加五价(五价电子)杂质,例如,形成。P. AS,SB。
n型半导体
五价杂质的五个价电子中的四个与硅原子形成共价键,剩余的电子在晶体内自由移动。五价杂质为硅提供电子,这就是为什么n型杂质原子被称为供体原子。这提高了纯硅的导电性。大多数载流子是电子,因此电导率是由这些电子决定的,
σ=neμ.e

P型半导体

在这种类型的半导体多个载体中是孔,少数载波是电子。通过在纯半导体晶体中添加三价(三价电子)杂质,例如,通过在纯半导体晶体中添加p型半导体形成。B,Al Ba。
p型半导体晶体
四价杂质的四个价电子中的三个与硅原子形成共价键。这种现象创造了一个我们称之为洞的空间。当温度升高时,另一个共价键的电子会跳跃来填补这个空间。因此,后面就形成了一个洞。传导就这样发生了。p型杂质接受电子,称为接受原子。大多数载流子是空穴,因此电导率仅由这些空穴决定,
σ=neμ.h

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